射流分散機在氣相二氧化硅分散制備上的應(yīng)用
實驗對象
灰色氣相二氧化硅液體（在白色二氧化硅里加入了其它成份），有一定的黏度。
實驗儀器
ATS高壓均質(zhì)機
ATS射流分散機
激光粒度儀
實驗背景
氣相二氧化硅是通過鹵硅烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細粉體材料。其粒徑很小，因此比表面積大，達到100～400m2/g，表面吸附力強，表面能大；化學(xué)純度高，SiO2含量不小于99.8％；分散性能好，分散后，可以形成“近乎完美”的納米粒子三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，使得它具有優(yōu)異的補強、增稠、觸變、防沉降、防流掛等性能。
實驗難點
1、氣相二氧化硅質(zhì)地硬，極易磨閥座閥芯，ATS使用金剛石閥座閥芯，抗磨。
2、氣相二氧化硅有一定黏度，不易進料，ATS使用特殊進料模塊輔助進料，進料方便。
3、氣相二氧化硅分散目標高，D50要達到100-200nm，ATS使用射流+均質(zhì)分散模塊，效果更快更好。
實驗?zāi)康?/STRONG>
分散后得到穩(wěn)定的分散體系，且D50小于200nm
實驗工藝
1、ATS高壓均質(zhì)機，采用一級均質(zhì)，控低溫處理；
2、ATS射流分散機，采用一級均質(zhì)，控低溫處理；
實驗結(jié)果
1、現(xiàn)象
ATS射流分散機處理后不掛壁，流動性良好。高壓均質(zhì)機均質(zhì)后流動表現(xiàn)弱于射流分散機。
高壓均質(zhì)機處理后
2、粒徑測量
氣化二氧化硅初始粒徑 、均質(zhì)機和分散機處理2次后的粒徑
氣化二氧化硅初始粒徑 、均質(zhì)機和分散機處理6次后的粒徑
實驗小結(jié)
一般的商品氣相二氧化硅經(jīng)機械力只能破壞彼此結(jié)合的范德華力，分散后的粒徑在100-300nm之間。ATS射流分散機能得到穩(wěn)定的分散體系，效果更好，粒徑更小，更值得推薦。
應(yīng)用領(lǐng)域
氣相二氧化硅廣泛用于各行業(yè)，作為添加劑、催化劑載體，應(yīng)用于石油化工，脫色劑，消光劑，橡膠補強劑，塑料充填劑，油墨增稠劑，金屬軟性磨光劑，絕緣絕熱填充劑，高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領(lǐng)域。并為相關(guān)工業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展提供了新材料基礎(chǔ)和技術(shù)保證。
